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ART-Z

应用场景

通讯领域的光纤耦合、半导体领域的圆晶缺陷检测、生物医疗领域的基因测序以及激光微纳加工等

产品介绍


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产品特点

纳米级定位精度

直线电机驱动,采用交叉滚柱导轨

具备非常优秀的动态性能和定位精度

空载截止频率最大可达 100Hz 以上

分辨率 1nm

重复定位精度 ±100nm

定位精度 ±250nm


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结构特点

双气缸配重

高动态性能(截止频率大于 100Hz)

交叉滚柱导轨

灵活的配置选项(可定制不同行程)

在位稳定性 3nm(配置线性驱动器,带隔振

实验室环境)


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定制化

更大行程可接受定制


产品参数

平台型号

ZWLM-ART-Z-040

ZWLM-ART-Z-100

ZWLM-ART-Z-160

有效行程

40 mm

100 mm

160 mm

定位精度

±0.3 um

±0.4 um

±0.5 um

双向重复定位精度

±0.1 um

±0.2 um

±0.25 um

俯仰

10 arc sec

12 arc sec

12 arc sec

偏摆

10 arc sec

10 arc sec

10 arc sec

横滚

10 arc sec

10 arc sec

10 arc sec

直线度

±2 um

±2 um

±2.5 um

平面度

±2um

±2um

±2.5 um

分辨率

1nm

最小步进量

5 nm

在位稳定性

3nm

最大加速度

500 m/s

最大速度

1g

最大水平负载

12 KG

持续推力

52 N

峰值推力

288 N

平台质量

2.7 kg

3.9 kg

5.2 kg

平台材质

平均无故障时间

20000 Hours


备注:

(1)适配 -ASH反馈,线性放大器;

(2)空载,需配置相应功率的放大器;

(3)默认测试点位置为台面上方25 mm,单轴指标,多轴系统的性能指标与实际载荷和工作点位置有关;

(4)气缸供气需配置空滤三联件,必须清洁、干燥,过滤至 0.25um以下颗粒,建议使用纯度为 99.9%的氮气。气压根据平台实际负载重量可调。

(5)其他行程可定制。


外形尺寸

ZWLM-ART-Z-160

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